二次元投影儀的發(fā)展

二次元投影儀的發(fā)展
隨著科技的發(fā)展和技術(shù)的進(jìn)步，測(cè)量投影儀由早期的簡(jiǎn)單的輪廓比對(duì)，發(fā)展成為二維測(cè)量，并出現(xiàn)了，X、Y、Z三軸電動(dòng)控制和計(jì)算機(jī)軟件支持等新技術(shù)。
一、二次元投影儀工作原理
二次元是指直角坐標(biāo)系中的X，Y二維坐標(biāo)，在臥式結(jié)構(gòu)中是指X，Z軸二維坐標(biāo)；
投影儀通過(guò)光學(xué)凸透鏡的放大，將較小的被測(cè)工件在投影屏上形成較大的圖像。測(cè)量投影儀就是以此為原理而進(jìn)行測(cè)量和觀察工件的裝置。
如圖 所示，被測(cè)工件Y 置于工作臺(tái)上，在透射或反射照明下，它由物鏡0 成放大實(shí)象Y'（倒像）并經(jīng)反光鏡M1 與M2 反射于投影屏P 的磨沙面上。當(dāng)反光鏡M1 換成正像系統(tǒng)后，Y'即成為正像，一個(gè)與工件*同向的影像，觀察很直觀，給使用者帶來(lái)極大的方便，CPJ-30XXAZ 即正像投影儀.在投影屏上可用標(biāo)準(zhǔn)玻璃工作尺對(duì)Y'進(jìn)行測(cè)量，也可以用預(yù)先繪制好的標(biāo)準(zhǔn)放大圖對(duì)它進(jìn)行比較測(cè)量。測(cè)得的數(shù)值除以物鏡的放大倍數(shù)即是工件的測(cè)量尺寸。還可以利用工作臺(tái)上的數(shù)字測(cè)量系統(tǒng)對(duì)工件Y 進(jìn)行坐標(biāo)測(cè)量；也可利用投影屏旋轉(zhuǎn)角度數(shù)顯系統(tǒng)對(duì)工件的角度進(jìn)行測(cè)量。圖中S1 與S2 分別為透射和反射照明光源，K1 與K2 分別為透射和反射聚光鏡。視工件的性質(zhì)，兩種照明可分別使用，也可同時(shí)使用。半透半反鏡L 僅僅在反射照明時(shí)才使用。
二、二次元投影儀分類：
二次元投影儀分為立式二次元投影儀（X，Y坐標(biāo)）和臥式二次元投影儀（X，Z坐標(biāo)）
三、二次元投影儀的應(yīng)用：
主要應(yīng)用于二維尺寸的精密測(cè)量，測(cè)量精度可達(dá)0.001mm級(jí)，被廣泛應(yīng)用于模具制造、電子、五金等行各業(yè)的精密檢測(cè)。

二次元投影儀規(guī)格參數(shù)

金屬臺(tái)面尺寸:（MM） 450×280
玻璃臺(tái)面尺寸:（MM） 306×196
X坐標(biāo)行程:（MM） 200
Y坐標(biāo)行程：（MM） 100
Z坐標(biāo)行程:（MM） 90調(diào)焦
儀器測(cè)量精密度：3+L/200
X、Y坐標(biāo)數(shù)顯分辨率：0.001MM

二次元投影儀各部分用料及參數(shù)

A、投影屏
1、投影屏尺寸（MM）Φ312，使用范圍大于Φ300，采用日本光刻技術(shù)，刻有米字線。
2、投影屏旋轉(zhuǎn)范圍：0-360º
3、旋轉(zhuǎn)角度數(shù)顯分辨率：1′或0.01º，采用日本旋轉(zhuǎn)編碼器。

B、物鏡
1、放大倍數(shù)：         10X（*）   20X（選）   50X（選）    100X（選）
2、物方線視場(chǎng)（MM）：   Φ30            Φ15      Φ6         Φ3
3、物方工作距（MM）：    77.777   .   44.3      38.4        25.3

C、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng):DC-3000多功能數(shù)顯表，采用日本材料，全中文顯示，可做多點(diǎn)采樣、坐標(biāo)旋轉(zhuǎn)、點(diǎn)、線、圓、距離、角度測(cè)量。
D、儀器照明:透射與反射照明采用德國(guó)歐司朗進(jìn)口光源24V，150W鹵素?zé)簟?br />E、冷卻方式:強(qiáng)制風(fēng)冷（3只進(jìn)口滾珠軸流風(fēng)機(jī)）
F、儀器電源：110V/220V（AC）50/60HZ，總功率400W 
G、儀器尺寸：長(zhǎng)*寬*高（MM）：770*810*1120
H、 X、Y工作臺(tái)采用球墨鑄鐵鑄造、精密加工而成，采用特殊定型穩(wěn)定化處理，大大提高測(cè)量精度與穩(wěn)定性。
I、 傳動(dòng)方式：采用日本無(wú)牙光桿傳動(dòng)。